分子等离子申请用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置专利, 利用低温无氧等离子体对物体进行涂覆

金融界2025年5月9日消息，国家知识产权局信息显示，分子等离子集团股份有限公司申请一项名为“用于基材上的大气压等离子射流涂覆沉积的改进方法和装置”的专利，公开号CN119932534A，申请日期为2019年6月。

专利摘要显示，本发明涉及一种用于等离子涂覆包括物体轮廓的物体的方法，包括以下步骤：a.制造能更换的遮护件(2)，该遮护件包括射流入口(22)、喷嘴出口(24)和从射流入口延伸至喷嘴出口的侧壁(21)，其中，喷嘴出口包括与物体轮廓的至少一部分基本上一致的边缘(25)；b.将能更换的遮护件能拆卸地附连到等离子射流发生器的射流出口；c.将物体放置在喷嘴出口处，使得物体轮廓紧密地配合喷嘴出口边缘，从而使喷嘴出口与物体之间的间隙最小化；d.通过经由等离子射流发生器在遮护件中提供等离子射流，并在遮护件中的等离子射流中喷射涂层前体，由此产生操作压力，在高于大气压力、优选地至多10％的操作压力下，从而利用低温无氧等离子体对物体进行涂覆，从而在氧耗尽的等离子体区中对物体进行等离子涂覆。

本文源自：金融界